平成２３年３月２３日に弊社を起業しました。技術から芸術までの領域に知のサービスを目標にして活動して参りました。コンサルタント事業が順調に売り上げを伸ばし、会社を継続することができております。弊社の強みは独創に有り、皆様のご支援とご期待にお応えするため、新たなサービスを準備しておりますのでご期待ください。
倉地育夫
略歴
- 1979年3月
- 名古屋大学工学部応用化学科博士課程前期修了
- 1979年4月
- ブリヂストンタイヤ株式会社(現(株)ブリヂストン)入社
- 1983年4月
- 科学技術庁無機材質研究所(現(独)物質材料研究機構)留学
有機無機ハイブリッド前駆体による半導体用高純度βSiC新規合成技術を発明。
- 1984年11月
- (株)ブリヂストン復職 高純度βSiC量産技術開発従事
((株)ブリヂストンは2007年日本化学会化学技術賞受賞)
- 1990年8月
- 半導体冶工具を住友金属工業と共同開発
- 1991年10月
- コニカ株式会社入社
パーコレーション転移を制御した写真用帯電防止層の開発
(2000年日本化学工業協会技術特別賞受賞)
- 1992年9月
- 学位取得(中部大学)
学位論文の内容は高純度βＳｉＣの反応速度論を中心とした機能性材料のケミカルプロセシングについて
- 1993年4月
- 福井大学工学部客員教授
インピーダンス法による帯電防止層評価技術を青木幸一教授と共同研究
- 1996年6月
- 有機無機ハイブリッドによる超高靱性ゼラチンの開発
(2004年写真学会ゼラチン賞受賞)
- 2005年8月
↓
2011年3月
電子写真用キーパーツ開発に従事
学会活動
日本化学会代議員、日本化学会産学交流委員会シンポジウム分科会主査、同委員長、日本化学会春季年会講演賞審査委員長、高分子学会代議員、高分子同友会開発部会世話人、無機高分子研究会運営委員、等歴任
現在：日本化学会会員、高分子学会会員、高分子同友会OB会員、社団法人ディレクトフォース会員
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