会社概要

会社概要について

会社概要
会社名
株式会社ケンシュー
所在地
〒174-0075 東京都板橋区桜川2丁目14番地4号
設立
2011年3月23日
資本金
400万円
代表者
倉地育夫(工学博士)
事業概要
1.技術分野から芸術分野までのコンサルティング。
2.紙媒体から電子媒体までの出版事業。
3.産産連携、産学連携等による各種プロジェクト企画と運営。
4.商品カタログ、ホームページや各種ディスプレー等のデザインや企画。
5.コンピューターソフト開発、シミュレーション受託などのコンピューター関連事業。
6.通信教育、講演会等の企画と運営。
7.前各号に附帯する一切の事業。
取引先銀行
三菱東京UFJ銀行、東京都民銀行
連絡先
TEL&FAX : 03-6786-5265
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会社概要について

平成23年3月23日に弊社を起業し、今年は5年目と なりました。技術から芸術までの領域に知のサービスを目標にして活動して参りました。既存のシステムをそのまま導入しました電子出版事業 は、大失敗となり早々と撤退を決断しましたが、コンサルタント事業が順調に売り上げを伸ばし、会社を継続することができております。弊社 の強みは独創に有り、皆様のご支援とご期待にお応えするため、新たなサービスを準備しておりますのでご期待ください。

倉地育夫

略歴

1979年3月
名古屋大学工学部応用化学科博士課程前期修了
1979年4月
ブリヂストンタイヤ株式会社(現(株)ブリヂストン)入社
1983年4月
科学技術庁無機材質研究所(現(独)物質材料研究機構)留学
有機無機ハイブリッド前駆体による半導体用高純度βSiC新規合成技術を発明。
1984年11月
(株)ブリヂストン復職 高純度βSiC量産技術開発従事
((株)ブリヂストンは2007年日本化学会化学技術賞受賞)
1990年8月
半導体冶工具を住友金属工業と共同開発
1991年10月
コニカ株式会社入社
パーコレーション転移を制御した写真用帯電防止層の開発
(2000年日本化学工業協会技術特別賞受賞)
1992年9月
学位取得(中部大学)
学位論文の内容は高純度βSiCの反応速度論を中心とした機能性材料のケミカルプロセシングについて
1993年4月
福井大学工学部客員教授
インピーダンス法による帯電防止層評価技術を青木幸一教授と共同研究
1996年6月
有機無機ハイブリッドによる超高靱性ゼラチンの開発
(2004年写真学会ゼラチン賞受賞)
2005年8月
  ↓
2011年3月

電子写真用キーパーツ開発に従事

特許出願件数

220件(2010年末)

学会活動

日本化学会代議員、日本化学会産学交流委員会シンポジウム分科会主査、同委員長、日本化学会春季年会講演賞審査委員長、高分子学会代議員、高分子同友会開発部会世話人、無機高分子研究会運営委員、等歴任


現在:日本化学会会員、高分子学会会員、高分子同友会OB会員、日本セラミックス協会会員、社団法人ディレクトフォース会員

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