2014.04/08 樹脂の熱膨張あるいは熱収縮（５）
樹脂の微粒子分散系における熱膨張あるいは熱収縮では、微粒子の形成するクラスターの安定性がヒステリシスに影響を与える。樹脂中で微粒子が安定に分散していないときには、Ｔｇ以下でも微粒子のクラスターは変化する。ゆえにこの場合のヒステリシスには再現性が乏しい場合がある。
すなわちヒステリシスが射出成型条件などによりばらつくだけでなく、成形品の熱履歴によってもヒステリシスが変化する。そしてその変化が非可逆だったりする。このような場合にアニールを行うとヒステリシスは小さくなり安定化する。アニールには、Ｔｇ以下で処理する場合とＴｇ以上で処理する場合がある。
通常の教科書にはＴｇ以下の処理が書かれているが、Ｔｇ以上でもアニール処理は可能である。但しＴｇ以上のアニールでは成形品の変形が生じない条件を選択する必要がある。すなわち高温短時間処理となる。Ｔｇが９０℃前後までの樹脂の場合には、９５℃程度のお湯に短時間つけるだけでＴｇ以下長時間アニールと同等の効果が得られる。
お湯を使用する理由は成形体へ均一に温度をかけるためである。成形体に温度が不均一にかかるとすぐに変形する。温度は強度因子であることを忘れてはいけない。
このアニール処理では高分子が緩和するために歪みがとれるわけであるが、高分子の種類によっては、Ｔｇ以下のアニールとＴｇ以上のアニールでマトリックスの高次構造が異なる場合がある。すなわち高次構造を検出可能であれば、どのような温度でアニールを行ったのかおおよその検出が可能である。
アニール以外に微粒子の分散を安定化させるには、コンパウンド段階で微粒子の分散安定化を試みることは重要で、Ｌ／Ｄの可能な限り長い二軸混練機で２０分以上混練する必要がある。高分子により３０分以上必要になるかもしれない。実際には、このような長い時間二軸混練機の中に樹脂を滞留させることは不可能なので弊社で開発されたカオス混合装置を用いるとよい。５００ｋｇ／ｈ前後まで対応可能な装置を開発中である。
このカオス混合装置は二軸混練機の先に取り付けるだけでよく、ウトラッキーの開発した伸張流動装置に似ているが、ウトラッキーの装置のように吐出量を多くすると実用性のない大きさになる欠点を解決した。また５年前開発された装置ともデザインが異なる新作である。
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